Article L622-1 of the French Intellectual Property Code

The final or intermediate topography of a semiconductor product reflecting an intellectual effort by the creator may, unless it is commonplace, be the subject of a deposit conferring the protection provided for in this chapter.

Such a deposit may not be made more than two years after the topography has first been commercially exploited anywhere or more than fifteen years after it has been fixed or encoded for the first time if it has never been exploited.

Any deposit which does not meet the conditions laid down in this Article shall be invalid.

Original in French

Article L622-1

La topographie finale ou intermédiaire d’un produit semi-conducteur traduisant un effort intellectuel du créateur peut, à moins qu’elle ne soit courante, faire l’objet d’un dépôt conférant la protection prévue par le présent chapitre.

Ce dépôt ne peut intervenir ni plus de deux ans après que la topographie a fait l’objet d’une première exploitation commerciale en quelque lieu que ce soit ni plus de quinze ans après qu’elle a été fixée ou codée pour la première fois si elle n’a jamais été exploitée.

Est nul tout dépôt qui ne répond pas aux conditions prévues au présent article.